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CVD化学气相沉积碳镀膜机 光学真空镀膜机镜片真空气氛镀膜设备厂家

  • CVD化学气相沉积碳镀膜机主要用于光学镜片度表面真空镀膜,又叫真空气氛镀膜机;该机由高纯石英罩和加热炉体用升降系统进行工作,可以减少人为接触并提高生产效率,加热工作台上有放置光学镜片模具层架,可以一次放入大量产品进行镜片真空镀膜,石英罩内通入反应气体加热分解成所需化学气体自动吸附在镜片表面生成一种气氛膜。CVD化学气相沉积碳镀膜机特点:■ 采用多层隔板设计,批量处理模压光学镜片的碳镀膜工艺,每炉可放数千个镜片;■ 智能化PLC程序升温程序,真空程序,CVD进气程序,操作简单方便;■ 优化干式真空泵,杜绝油液污染,可选择国产干式泵和进口干式泵;■ 智能化CVD进气控制系统,适应于氮气、乙炔/甲烷、氩气、空气的通入和混合;■ 先进的密封系统,泄漏率低,长期使用稳定性高;CVD化学气相沉积碳镀膜机详细资料:主要用途■ 适用于模压非球面光学玻璃镜片的碳镀膜工艺;■ 适应于半导体行业晶圆表面薄膜生长;■ 可用于陶瓷及单晶体表面沉积碳纳米管工艺;
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CVD化学气相沉积碳镀膜机主要用于光学镜片表面真空镀膜,又叫真空气氛镀膜机;该机高纯石英罩和加热炉体采用升降系统进行工作,可以减少人为接触并提高生产效率,真空系统可以抽完炉内多余气体保证管内在加热过层中没有混合气体,加热工作台上有放置光学镜片托盘层架,可以先将产品放入镀膜托盘,在将托盘放入层架中;一次放入大量产品进行镜片真空镀膜,石英罩内通入反应气体加热分解成实验所需化学气体自动吸附在镜片表面生成一种碳镀膜。

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CVD化学气相沉积碳镀膜机特点:

■ 采用多层隔板设计,批量处理模压光学镜片的碳镀膜工艺,每炉可放数千个镜片;

■ 智能化PLC程序升温程序,真空程序,CVD进气程序,操作简单方便;

■ 优化干式真空泵,杜绝油液污染,可选择国产干式泵和进口干式泵;

■ 智能化CVD进气控制系统,适应于氮气、乙炔/甲烷、氩气、空气的通入和混合;

■ 先进的密封系统,泄漏率低,长期使用稳定性高;

CVD化学气相沉积碳镀膜机详细资料:

主要用途

■ 适用于模压非球面光学玻璃镜片的碳镀膜工艺;

■ 适应于半导体行业晶圆表面薄膜生长;

■ 可用于陶瓷及单晶体表面沉积碳纳米管工艺;


产品技术参数

产品型号:GS-30-700广树

使用温度: 650℃;

使用气氛: 氮气、氩气、空气、二氧化碳、乙炔、甲烷、合气体;

长期使用:400-700℃;

 动 度: ±1℃;

显示精度: 0.1℃;

 匀 度: 容积30L;

进气流量:三路MFC质量流量计控制,一路浮子流量计控制;

升降系统: 两套伺服升降系统平台;

控制系统:智能程序化PLC控制系统;

真空泵真空度: 极限真空1Pa;

腔内真空度:≤10Pa;

降温要求:外置冷却风机,降温阶段强制降温;

整机功率: 18KW;

电  : 380V, 50Hz;

水冷装置:高质量水冷机,PLC联机控制

保护装置: 过载、过流、过压保护,接地,热电偶异常报警,二次回路超温报警保护装置;冷却水温保护,压力过载保护;

技术服务: 提供设备使用过程中的技术咨询和支持,接到客户故障通知3个工作时内立即响应。



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